賽默飛世爾科技 Helios 5 DualBeam 具有 Helios 5 產品系列高性能成像和分析性能。它經過設計，可滿足材料 科學 研究人員和工程師對廣泛的 FIB-SEM 使用需求，即使是具挑戰性的樣品。

     Helios 5 DualBeam 重新定義了高分辨率成像的標準：材料對比度，快速、簡單、精確的高質量樣品制備，用于 S/TEM 成像和原子探針斷層掃描（APT）以及亞表面和 3D 表征。在 Helios DualBeam 系列久經考驗的性能基礎上， Helios 5 DualBeam 進行了改進優化，所有這些都旨在確保系統處于手動或自動工作流程的運行狀態。

     半導體行業技術參數：

     材料科學行業技術參數：

     更易于使用：

     Helios 5 對所有經驗水平用戶而言都是容易使用的 DualBeam 系統。操作人員培訓可以從幾個月縮短到幾天，其系統設計可幫助所有操作人員在各種應用程序上實現一致、可重復的結果。

     提高了生產率：

     Helios 5 和 AutoTEM 5 軟件的先進自動化功能，可靠性和穩定性允許無人值守甚至夜間操作，顯著提高樣品制備通量。

     改善時間和結果：

     Helios 5 DualBeam 引入精細圖像調節功能 FLASH （閃調）技術。借助 FLASH 技術，您只需在用戶界面中進行簡單的鼠標操作，系統即可“實時”進行消像散、透鏡居中和圖像 聚 焦。自動調整可以顯著提高通量、數據質量并簡化高質量圖像的采集。平均而言，FLASH 技術可以使獲得優化圖像所需的時間縮短 10 倍。