儀器名稱：全自動離子濺射儀    型號：ETD-800

     原理：二極直流濺射

     儀器名稱：離子濺射儀 型號：ETD-900M

     原理：磁控濺射

     在磁控濺射中，由于運動電子在磁場中受到洛侖茲力，它們的運動軌跡會發生彎曲甚至產

     生螺旋運動，其運動路徑變長，因而增加了與工作氣體分子碰撞的次數，使等離子體密度增 加，從而磁控濺射速率得到很大的提高，而且可以在較低的濺射電壓和氣壓下工作。同時，經過多次碰撞而喪失能 量的電子到達陽極時，已變成低能電子，從而不會使基片過熱。

     ETD-800參數：

     主機規格：260mm×307mm×260mm（W×D×H）

     電源規格：220V/50HZ

     靶（上部電極）：50mm×0.1mm（D×H）

     靶材：Au

     真空樣品室： 硼硅酸鹽玻璃 115mm×100mm（D×H）

     定時器： zui 長時間：3600S

     機械泵： 1L/S

     zui 高電壓：-1200  DCV

     ETD-900M參數：

     主機規格：300mm×360mm×380mm（W×D×H）

     靶（上部電極）：50mm×0.1mm（D×H）

     靶材：Au（標配）

     樣品室：硼硅酸鹽玻璃 160mm×120mm（D×H）

     靶材尺寸：Ф 50mm

     真空指示表： zui 高真空度：≤ 4X10-2 mbar

     離子電流表： zui 大電流：50mA

     定時器：zui 長時間：0-360S ?

     微型真空氣閥：可連接φ 3mm 軟管

     可通入氣體： 多種

     zui 高電壓： -1600 DCV ?

     機械泵：標準配置 2L/S（國產 VRD-8）

特點與用途：

     ETD-800用途：

     適用于電鏡實驗室的掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備。

     特點：

     可以通過更換不同的靶材（金、鉑、銀等），以達到細顆粒的涂層。

     一鍵式操作，使用方便。

     ETD-900M用途：

     適用于電鏡實驗室的掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備，非導體材料實驗電極制作。

     特點：

     1、簡單、經濟、可靠、外觀精美。

     2、可調節濺射電流和真空室壓強以控制鍍膜的速率和顆粒的大小。

     3、SETPLASMA 手動啟動按鈕可預先設置好壓強和濺射電流避免對膜造成不必要的 損 傷。

     4、真空保護可避免真空過低造成設備短路。

     5、同時可以通過更換不同的靶材（金、鉑、銥、銀、銅等），以達到更細顆粒的涂層。

     6、通過通入不同的惰性氣體以達到更純凈的涂層。