產品功能介紹
Gatan公司的精密刻蝕鍍膜儀 (PECS™) II 是一款桌面型寬束氬離子拋光及鍍膜設備。對于同一個樣品，可在同一真空環境下完成拋光及鍍膜。
產品主要技術特點：
精密刻蝕鍍膜儀 (PECS™) II，采用兩個寬束氬離子束對樣品表面進行拋光，去 除 損失層，從而得到高質量的樣品，用于在SEM、光鏡或者掃描電子探針上進行成像、EDS，EBSD，CL，EBIC或者其他分析，另外將這兩支離子槍對準靶材濺射，可用來對樣品做導電金屬膜沉積處理，以 防 止樣品在電鏡中發生荷電效應。
這款儀器被設計為不破壞真空，不將樣品新鮮表面暴露在大氣中，即可對拋光樣品進行處理。樣品的裝卸是通過一個專門設計的裝樣工具在真空交換艙中完成。
兩支具有更大電壓范圍的小型潘寧離子槍，可提供快速柔和的拋光效果。低至100eV的離子束提供更柔和的拋削效果，用于樣品的拋光。低能 聚 焦電極使得離子束的直徑在幾乎整個加速電壓范圍內都保持一致。每個離子槍都能準確獨立地進行對中。在儀器運行過程中，離子槍的角度可進行調整。離子槍的氣流可在觸摸屏上通過手動方式或者自動方式進行調整， 用于優化離子槍的工作電流。
PECS II樣品臺采用液氮制冷方式?？梢杂行У谋Ｗo樣品，避免離子束熱 損 傷，消除可能的假象。
集成的10英寸彩色觸摸屏計算機可對PECS II系統的所有操作參數進行完全控制。此界面可以設定所有參數并能夠監控拋光過程。所有的操作參數還可以存為標準，調用標準可獲得高精度重復實驗。
渦輪分子泵搭配兩級隔膜泵保證了超潔凈環境。通過Gatan的樣品裝卸工具能實現快速樣品交換（< 1min），這樣就能保證換樣過程中加工艙室始終處在高真空狀態。
圖片說明：（A）PECSII 拋光的樣品表面的二次電子像，顯示出高度孿晶的晶粒（B）PECSII拋光后的鋯合金的菊池花樣（C）EBSD歐拉角分布圖（D）IPFZ面分而戰。照片由牛津大學材料學院AngusWilkin-son 教授和Hamidreza Abdolvand 博士提供。數據是在配有BrukerQuantax EBSD系統的Zeiss Merlin Compact掃描電鏡上采集。
